師大物理奈米磁學實驗室

Nano Magnetic Lab of Physics NTNU

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  在前瞻科學之基礎上發展出來的先進技術,往往成為下一世代工業革命的先導,也是技術競爭的制高點,而在高科技基礎上發展起來的產業其產值很高,更是衡量一個國家科學技術與經濟實力的重要指標;隨著科學技術的發展,應用元件的科技研發方向正快速朝向輕薄短小推展,控制在奈米層次所製造出來的奈米電子元件其元件密度、速度、耗能及成本效益將遠超過現有的半導體技術,奈米科技正在創造新一波技術與產業革新,因而世界各科技先進國家無不把奈米科技定位為國家重點發展方向。當我們在研究微小物件時,因為表面積與體積的比例增加,使得物質表面效應研究更顯得重要;而材料縮小到奈米尺度下,量子效應亦愈趨明顯,並且帶來了嶄新而與塊材不同的物性;這些特殊的磁、光、電、化學特性研究的進展,不論是在科學學術研發或是工業界產品開發與性能提升,均占相當重要的地位。
    本實驗室研究主軸在探討奈米尺度超薄膜結構之材料性質,包含厚度僅為幾原子層之超薄膜、合金膜、雙層膜及多層膜,以各種樣品製備技術製作所需各式樣品,並結合材料特性分析技術,兼顧基礎研究與工業應用方向,深入瞭解奈米尺度超薄膜結構之磁、光、電、化學等特殊性質。

  目前主要研究方向為
一、超薄膜物性研究:研究金屬/半導體介面、超薄半導體膜及高密度記錄材料薄膜之製作與特殊物性探討。
二、磁性介面研究:研究磁性金屬/半導體介面磁性、鐵磁/反鐵磁耦合介面及垂直異向性高密度記錄材料之製作與磁性探討。
三、奈米級薄膜結構研究以離子濺鍍與化學電鍍成長奈米級薄膜結構,並以磁光科爾效應與掃瞄穿隧電子顯微鏡等研究樣品之磁性與結構特性。
四、低維度磁性系統:研究在階梯形基材上成長之低維度磁性樣品,相關之量子點與奈米線之物性探討以及自旋電子元件界面特性(與中央研究院物理研究所姚永德教授研究群合作)。
   在這裡,你將學習到表面科學與磁性物理領域中常用的重要技術,這些技術也常應用在高科技產業中材料製作與研發方面:
1.超高真空技術(UHV)。
2.奈米級樣品製備技術:分子束磊晶(MBE)、離子濺鍍與精密化學電鍍
3.材料特性分析技術:表面磁光科爾效應(SMOKE)、歐傑電子能譜術(AES)、低能量電子繞射(LEED)、退吸附質譜分析(TDS)、掃瞄穿隧電子顯微鏡(STM)。
   歡迎研究生與大學部同學加入奈米磁學研究領域,對此研究領域有興趣或想進一步瞭解細節之同學請與我們聯絡,將可安排研究方向導覽與實驗室參觀。